二硼化钛溅射靶
二硼化钛 (TiB2) 以其极高的硬度而备受青睐。与其他涂层不同，二硼化钛不会与铝发生反应。这意味着在加工铝时，材料颗粒不会粘附在工具尖端上。这能够防止因在加工中使用更大的力而导致工具快速磨损，并且还能够防止工具尖端的过早断裂。因此，涂有二硼化钛的工具特别适合加工铝和其他有色金属。
靶材优势一览：
密度高
优异的抗热冲击性
最优同质化微观结构
最高材料纯度
卓越的产品质量
重要特性一览：
| 纯度 [%] | 99.7 |
| 保证密度 [g/cm3] | 4.40 |
| 晶粒度 [µm] | 2 |
| 热导率 [W/(m·K)] | 64 |
| 热膨胀系数 [1/K] | 7.4 · 10-6 |
值得信赖的质量
我们会对二硼化钛粉末进行预处理，这意味着靶材的微观结构非常精细均匀。这样做的好处是靶材在涂层工艺中会被均匀剥离，并且涂层会更加光滑。
高密度保证了光滑的涂层
作为一种陶瓷材料，二硼化钛需要在 1700 至 2000℃ 的高温下进行压缩。为此，我们使用热压机生产靶材，从而至少可达到 98% 的理论密度。因此，靶材在溅射过程中不会释放出粉末颗粒。由此便可实现卓越的涂层结构和强大的涂层附着力。
优异的抗热冲击性保证较长的使用寿命
在涂层工艺中，靶材会经受高温。一旦溅射完成，材料会迅速冷却。这可能会导致靶材出现裂缝或断裂。由于采用了特殊的粉末冶金生产工艺，我们的靶材具有特别强的抗热冲击性，并且能够轻松承受无数次温度循环。
卓越的材料纯度，确保一流品质
涂层材料越纯，硬质材料层质量越好。从一开始我们就只使用最精细的粉末，我们在自有设备中混合这些粉末，以确保达到最佳的材料纯度。从粉末到成品，我们对每个步骤进行监控，并确保只出厂密度、纯度和同质微观结构符合要求的靶材。
从粉末到成品靶材，一切同源
作为领先的溅射靶制造商，我们自主完成生产工艺的每个步骤。从金属粉末的混合和压实到成形、机加工和焊合靶材，均由我们自主完成，我们还开发新材料以优化涂层工艺和膜层。当然，我们也利用先进的测量方法验证靶材的质量。
可用于以下涂层工艺
二硼化钛硬质材料层通过磁控溅射工艺喷涂到工具上。为此，我们提供纯陶瓷二硼化钛溅射靶和钼或铜背板上的粘结靶材。得益于背板，我们的粘结靶材稳定、抗裂且易于操作。我们一般使用铟作为焊材；
- 反应磁控溅射转至“PVD 涂层的工作原理”视频
钼薄膜通过磁控溅射工艺（阴极溅射）镀制（溅射）。在这种基于真空的涂层工艺中，源材料以溅射靶的形式存在。
在真空室中通过施加几百伏的电压并充入氩气，点燃等离子体。这些等离子体由纯氩、带正电荷的氩粒子（氩离子）和自由电子组成。带正电荷的氩离子通过电场，朝向带负电荷的阴极（靶）加速。它们以高达几十上百电子伏特 (eV) 的高动能撞击靶材表面，与台球游戏类似，氩粒子会将溅射靶表面的原子撞出表面。这样，涂层材料就逐渐被侵蚀。从靶上释放的原子穿过真空室向相反的衬底移动，并在衬底沉积为薄层（类似于淋浴时，浴室镜子会覆上一层水蒸气）。
采用硼化物靶材来改进涂层材料
Plansee 与 Oerlikon Surface Solutions AG 以及维也纳工业大学 材料科学与技术研究所进行合作，在 Christian-Doppler 实验室研究经改进的涂层材料。
结果：W1-xTaxB2 涂层。通过将高达 26%（重量百分比）的钽添加到首选的 WB2 α 晶体结构中，热稳定性可从 800℃ 提高到 1400℃。研究团队能够通过理论和实验证明，这种效应的基础是通过间隙实现晶体结构稳定。相关的出版物证明，添加钽不会对 α- WB2 较高的断裂韧性产生负面影响。这是一项重大发现，而以前大多数二硼化物由于其脆性而无法得到利用。
适用于涂层技术的其他产品
我们很乐意提供相应的紧固材料（例如石墨箔、螺钉、垫圈和螺栓）以及电弧阴极。访问我们的产品页面，了解更多材料：
