钼单块旋转溅射靶

使用单块靶材时，钼与来自涂层设备的冷却水直接接触。通常，必须使用合适的添加剂（即抑制剂）来调节冷却水，以便正常使用单块靶。这些添加剂可稳定冷却水的 PH 值，防止钼发生腐蚀。Plansee 正在申请专利的聚合物基内涂层专为单块旋转靶而开发，可防止涂层材料与冷却水直接接触。这是一个巨大的优势，因为这意味着在 CIGS 太阳能电池和 TFT LCD 屏幕的生产中大幅减少抑制剂的使用，从而节省成本。耐用的内涂层非常薄，不会显着影响旋转靶的导热性，并继续保证出色的溅射性能。